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污水處理廠低溫等離子體惡臭處理技術(shù)機理

未知, 2020-11-09 17:15, 次瀏覽

污水處理廠低溫等離子體惡臭處理技術(shù)機理
 
在污水處理系統(tǒng)中,***要產(chǎn)生污染源的當(dāng)?shù)厥沁M入格柵、曝氣沉沙池、曝氣池及終究儲泥池等工序段。污水處理廠進水中的惡臭成分:硫化氫、二硫化碳、鉀硫醇、二甲基硫、二甲基二硫、二甲胺、三甲胺、異丙胺、吲哚、甲基吲哚。
 
低溫等離子體除臭的機理
 
 等離子體去除惡臭是通過兩個途徑完成的:一個是在高能電子的瞬間是高能量效果下,翻開某些有害氣體分子的化學(xué)鍵,使其直接分解成單質(zhì)原子或無害分子;另一個是在很多高能電子、離子、激起態(tài)粒子和氧自在基、氫氧自在基(自在基因帶有不成對電子而具有很強的活性)等效果下的氧化分解成無害產(chǎn)品。***要有下面幾個進程:
 
1、在高能電子效果下,強氧化性自在基O、OH、OH2的產(chǎn)生;
 
2、有機物分子遭到高能電子磕碰被激起,及原子鍵開裂構(gòu)成小碎片基團和原子;
 
3、O、OH、HO2與激起原子、有機物分子、廢氣處理公司破碎的基團、其他自在基等產(chǎn)生一系列反響,有機物分子終究被氧化降解為CO、CO2、H2O。去除率的凹凸與電子能量和有機物分子結(jié)合鍵能的***小有關(guān)。
 
從除臭機理上剖析,***要產(chǎn)生以下反響:
 
           H2O+O2、O2-、O2+——SO3+H2O
 
           NH3+O2、O2-、O2+——NOx+H2O
 
H2S去除率可達91.9%,NH3去除率可達93.4%,臭氣濃度去除率可達93.6%。
 
從上述反響來看,惡臭組分通過處理后,轉(zhuǎn)變?yōu)镹Ox、SO2、CO2、H2O等小分子,在必定的濃度下,各種反響的轉(zhuǎn)化率均在95%以上,并且惡臭濃度較低,因而產(chǎn)品的濃度極低,均能被周邊的***氣所承受。


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